Η έκδοση PLA+ 2.0 προσφέρει έως και 1,5× καλύτερη ρευστότητα από το κοινό PLA, κάτι που συμβάλλει σε ομοιόμορφη τροφοδοσία και πιο σταθερή διαδικασία εκτύπωσης. Έτσι βοηθά στη μείωση του κινδύνου προβλημάτων εξώθησης και βελτιώνει τη συνέπεια των στρώσεων.
Το Sunlu PLA+ 2.0 είναι σχεδιασμένο για μεγαλύτερη αντοχή στο χρόνο και αντοχή στο ράγισμα. Είναι κατάλληλο για στιβαρά μοντέλα και εξαρτήματα που πρέπει να αντέχουν την καθημερινή χρήση και υψηλότερες απαιτήσεις αξιοπιστίας.
Το νήμα υποστηρίζει ταχύτητες εκτύπωσης έως 300 mm/s, ώστε να μειώσετε τον χρόνο παραγωγής χωρίς σημαντική απώλεια ποιότητας. Η σταθερή τροφοδοσία και η χαμηλή τάση παραμόρφωσης επιτρέπουν πιο ομαλή εκτύπωση ακόμη και σε μεγαλύτερα έργα.
Το νήμα Sunlu PLA+ 2.0 συνδυάζει την ευκολία εκτύπωσης που είναι χαρακτηριστική του PLA με μεγαλύτερη ανθεκτικότητα και αντοχή, χάρη στα οποία είναι κατάλληλο όχι μόνο για οπτικά μοντέλα, αλλά και για λειτουργικά εξαρτήματα και στοιχεία που προορίζονται για καθημερινή χρήση. Το βελτιωμένο μείγμα στην έκδοση 2.0 εξασφαλίζει πιο σταθερή ροή υλικού, γεγονός που βοηθά να περιοριστούν οι διακοπές εξώθησης και βελτιώνει τη συνέπεια των στρώσεων.
Αν χρειάζεστε να μειώσετε τον χρόνο υλοποίησης παραγγελιών, θα εκτιμήσετε την υποστήριξη εκτύπωσης έως 300 mm/s χωρίς σημαντικούς συμβιβασμούς στην ποιότητα. Χάρη στην ακριβή ανοχή διαμέτρου και στη χαμηλή τάση για παραμορφώσεις, η εκτύπωση είναι πιο αξιόπιστη ακόμη και σε μεγαλύτερης διάρκειας εκτυπώσεις.
Κύρια πλεονεκτήματα του νήματος Sunlu PLA+ 2.0:
