Η έκδοση PLA+ 2.0 προσφέρει έως και 1,5× καλύτερη ρευστότητα από το συνηθισμένο PLA, συμβάλλοντας στην ομοιόμορφη τροφοδοσία και σε πιο σταθερή διαδικασία εκτύπωσης. Έτσι βοηθά στη μείωση του κινδύνου προβλημάτων εξώθησης και βελτιώνει τη συνέπεια των στρώσεων.
Το Sunlu PLA+ 2.0 έχει σχεδιαστεί για μεγαλύτερη ανθεκτικότητα και αντοχή στις ρωγμές. Είναι κατάλληλο για στιβαρά μοντέλα και εξαρτήματα που πρέπει να αντέχουν την καθημερινή χρήση και αυξημένες απαιτήσεις αξιοπιστίας.
Το νήμα υποστηρίζει ταχύτητες εκτύπωσης έως 300 mm/s, ώστε να μειώνετε τον χρόνο παραγωγής χωρίς σημαντική απώλεια ποιότητας. Η σταθερή τροφοδοσία και η χαμηλή τάση παραμόρφωσης επιτρέπουν ομαλότερη εκτύπωση ακόμη και σε μεγαλύτερα έργα.
Το νήμα Sunlu PLA+ 2.0 συνδυάζει την ευκολία εκτύπωσης που χαρακτηρίζει το PLA με μεγαλύτερη σκληρότητα και αντοχή, καθιστώντας το κατάλληλο όχι μόνο για οπτικά μοντέλα, αλλά και για λειτουργικά εξαρτήματα και στοιχεία που προορίζονται για καθημερινή χρήση. Το βελτιωμένο μείγμα της έκδοσης 2.0 εξασφαλίζει πιο σταθερή ροή υλικού, βοηθώντας στον περιορισμό των διακοπών εξώθησης και βελτιώνοντας τη συνέπεια των στρώσεων.
Αν χρειάζεστε να μειώσετε τον χρόνο ολοκλήρωσης των παραγγελιών, θα εκτιμήσετε την υποστήριξη εκτύπωσης έως 300 mm/s χωρίς σημαντικούς συμβιβασμούς στην ποιότητα. Χάρη στην ακριβή ανοχή διαμέτρου και τη χαμηλή τάση παραμόρφωσης, η εκτύπωση είναι πιο αξιόπιστη ακόμη και σε μεγαλύτερης διάρκειας εκτυπώσεις.
Κύρια πλεονεκτήματα του νήματος Sunlu PLA+ 2.0: